研磨就是將一種媒介（超硬磨料和相關(guān)膏劑，或液體載體）作用于零件表面和研磨盤之間。

 

當(dāng)金剛石顆粒嵌入研磨盤時(shí)，顆粒相當(dāng)于在進(jìn)行超精磨削，而同時(shí)在研磨加工過程中有些顆粒可能會(huì)不斷地脫離研磨盤，成為自由顆粒在之間滾動(dòng)。這樣被研磨的零件表面沒有方向性的紋理。研磨拋光機(jī)研磨過程即金剛石顆粒切入工作表面去除細(xì)微的材料。設(shè)想一下零件表面經(jīng)過上百萬次這種捏合和摩擦過程的重復(fù)，不僅有效地去除了材料，同時(shí)也實(shí)現(xiàn)了拋光（當(dāng)金剛石磨料粒度細(xì)至50nm時(shí)，拋光的作用更明顯）。

 

為了獲得金剛石磨料的固有強(qiáng)度優(yōu)勢(shì)，理想的平面研磨機(jī)需具有高的向下壓力或向下推力（5psi或更高），同時(shí)具有強(qiáng)有力的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，允許使用較大的壓力負(fù)荷，可變速以及具有高轉(zhuǎn)速的能力。

 

與傳統(tǒng)研磨使用氧化鋁磨料相比，金剛石超硬磨料研磨具有以下優(yōu)勢(shì)：

◎ 去除率高，實(shí)現(xiàn)更高的生產(chǎn)效率

◎ 半個(gè)波長(zhǎng)（百萬分之十一英寸），完美的邊-邊平整度，某些案例可達(dá)1/20波長(zhǎng)的平整度

◎ 表面粗糙度好于次微米級(jí)（<0.5Ra），某些案例可達(dá)次納米級(jí)

◎ 可實(shí)現(xiàn)一步研磨和拋光方案，縮短加工時(shí)間

◎ 減少浪費(fèi)以支持綠色環(huán)保