拋光墊對平面研磨工藝有哪些用途
摘要：平面 研磨機 加工工藝是復雜而又精確的，需要各種研磨耗材的配合。其中拋光墊對平面 研磨機 的研磨工藝有很大的作用，以下就是拋光墊在研磨機加工工件上的四個(gè)作用。 ①把拋光液有效均勻地輸送到拋光墊的不同區域; ②將拋光后便化學(xué)反應充分進(jìn)行的反應物、碎
平面研磨機加工工藝是復雜而又精確的，需要各種研磨耗材的配合。其中拋光墊對平面研磨機的研磨工藝有很大的作用，以下就是拋光墊在研磨機加工工件上的四個(gè)作用。
①把拋光液有效均勻地輸送到拋光墊的不同區域;
②將拋光后便化學(xué)反應充分進(jìn)行的反應物、碎屑等順利排出，達到去除效果;
③維持拋光墊表面的拋光液薄膜, 以便化學(xué)反應充分進(jìn)行;
④保持研磨機拋光過(guò)程的平穩、表面不變形, 以便獲得較好的晶片表面形貌。
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