如何解決平面拋光機(jī)拋光速率低的問(wèn)題
摘要：在操作平面拋光機(jī)的時(shí)候經(jīng)常出現(xiàn)拋光速率突然降低，對(duì)接下來(lái)的拋光工藝效率帶來(lái)很多不便。下面 研磨機(jī) 廠家就來(lái)為大家解答如何解決平面拋光機(jī)速率降低的情況。 首先拋光機(jī)的拋光速率低解決這個(gè)矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。 粗拋目的是去除
在操作平面拋光機(jī)的時(shí)候經(jīng)常出現(xiàn)拋光速率突然降低，對(duì)接下來(lái)的拋光工藝效率帶來(lái)很多不便。下面研磨機(jī)廠家就來(lái)為大家解答如何解決平面拋光機(jī)速率降低的情況。
首先拋光機(jī)的拋光速率低解決這個(gè)矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。
粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有最大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能小；其次是精拋(或稱終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到最小。拋光機(jī)拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤(pán)應(yīng)絕對(duì)平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。
同時(shí)，還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時(shí)，由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫，潤(rùn)滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會(huì)拋傷表面。
當(dāng)然，我們?yōu)榱诉_(dá)到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)速較低，最好不要超過(guò)600r/min；拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些，因?yàn)檫�要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕，有待精拋消除。
以上就是研磨機(jī)廠家給大家?guī)?lái)的解決方案，希望通過(guò)這篇文章能夠幫助大家。
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