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    相信對研磨和拋光不是很了解的朋友應該經(jīng)常會(huì )誤認為研磨和拋光是相同的，小編在這里告訴大家研磨和拋光是有很大區別的！下面就來(lái)具體分析研磨和拋光的不同。

 

    研磨利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒，通過(guò)研具與工件在一定壓力下的相對運動(dòng)對加工表面進(jìn)行的精整加工(如切削加工)。研磨可用于加工各種金屬和非金屬材料，加工的表面形狀有平面，內、外圓柱面和圓錐面，凸、凹球面，螺紋，齒面及其他型面。加工精度可達IT5~01，表面粗糙度可達Ra0.63~0.01微米。

         

    拋光是利用機械、化學(xué)或電化學(xué)的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、平整表面的加工方法。 兩者的主要區別在于:拋光達到的表面光潔度要比研磨更高，并且可以采用化學(xué)或者電化學(xué)的方法，而研磨基本只采用機械的方法，所使用的磨料粒度要比拋光用的更粗，即粒度大。

 

    對于表面光潔度來(lái)說(shuō)，拋光的表面光潔度比研磨的要更高一些。其實(shí)拋光液可以說(shuō)是研磨的后道工序，可以在同一平面拋光劑機上同時(shí)實(shí)現研磨和拋光。研磨分為粗磨，精磨; 拋光則分為，粗拋，精拋。很多時(shí)候我們都是三道工序來(lái)進(jìn)行產(chǎn)品表面質(zhì)量的加工：粗磨、精磨、精拋。在進(jìn)行了這三道工序之后，工件表面的平面度，平行度，粗糙度就相當高了。有些客戶(hù)對于工件的精度要求就沒(méi)有那么高了，特別是粗糙度沒(méi)那么高就只采用前兩道工序，或者精磨這一道工序。具體還是要看客戶(hù)工件本身的質(zhì)量，以及客戶(hù)要達到的工件要求。

 

    研磨和拋光可以在同一平面拋光機上實(shí)現，但是所有的配置與耗材卻不一樣。研磨需要用研磨盤(pán)和研磨液，拋光則是用拋光液和拋光盤(pán)，拋光布輪等耗材。所以在一臺平面拋光機上實(shí)現研磨和拋光時(shí)需要研磨盤(pán)，液體等耗材。